Periodic distribution of dopants at the nanoscale in silicon: bottom-up and bottom-up/top-down hybrid approaches / Kuschlan, Stefano. - ELETTRONICO. - (2024).

Periodic distribution of dopants at the nanoscale in silicon: bottom-up and bottom-up/top-down hybrid approaches

Kuschlan, Stefano
2024-01-01

2024
XXXVI
Chemistry and Biology
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Descrizione: PDF S. Kuschlan tesi di dottorato
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11579/212130
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