Effect of carrier tunneling on the structure of metal assisted etched Si nanowires
D. ANTONIOLI;
2016-01-01
File in questo prodotto:
File | Dimensione | Formato | |
---|---|---|---|
41 - Effect of carrier tunneling on the structure of Si nanowires fabricated by metal assisted etching 2016 - Nanotechnology.pdf
file disponibile agli utenti autorizzati
Tipologia:
Versione Editoriale (PDF)
Licenza:
Dominio pubblico
Dimensione
4.22 MB
Formato
Adobe PDF
|
4.22 MB | Adobe PDF | Visualizza/Apri Richiedi una copia |
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.